Plasma in general 플라즈마용사코팅에서의 carrier gas

2019.01.09 15:32

훈느 조회 수:826

플라즈마용사코팅에서 carrier gas 종류에 따른 차이점이 무엇일까요?

carrier gas로 Ar/He/H2/N2 사용 시 각 gas에 따른 차이점이 무엇인지 왜 그런 차이가 나는지에 대해 궁금합니다.

플라즈마 발생 기체로 사용시에는 이온화 에너지 차이에 따른 변화가 있을 것으로 예상 되지만

carrier gas 종류에 따른 차이도 있을까요?

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76865
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20266
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57197
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68750
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92686
457 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [1] 4210
456 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 4167
455 RPSC 관련 질문입니다. [2] 4052
454 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 3988
453 the lines of magnetic  induction are frozen into the perfectly conducting material에 대한 질문 [1] file 3978
452 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3971
451 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 3958
450 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 3951
449 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] 3851
448 DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [2] 3835
447 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 3799
446 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 3751
445 Descum 관련 문의 사항. [1] 3739
444 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 3711
443 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 3658
442 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] 3642
441 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 3559
440 방전에서의 재질 질문입니다. [1] 3559
439 ESC Cooling gas 관련 [1] 3553
438 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 3550
쓰기
태그

Boards

XE Login