DC glow discharge 방전에서의 재질 질문입니다. [방전과 전압]

2014.02.10 14:52

윤준식 조회 수:3794

안녕하세요 김곤호 교수님.

저는 코로나 방전 공부를 하고 있는 대학원생입니다.

다름이 아니라 재질에 대해 질문 드리고 싶은데요,

저는 재질을 스테인리스, 황동, 텅스텐 3종류를 바꿔가면서 방전 실험을 했습니다.

제가 비슷한 글을 찾아본 결과 음극판의 2차 전자방출계수가 높은것 일수록 플라즈마 공간 유지에 좋다고 봤습니다.

그렇다면 재질이 바뀌면 전류-전압 그래프가 서로 다르게 나와야 되는게 아닌가 싶습니다.

하지만 재질을 바꿨을 경우 전류-전압은 그대로인데 풍속만 차이가 있었습니다. 여기서 풍속은 이온풍입니다.

즉 2차 전자방출계수 말고도 다른 요소에 의해서 전류-전압 그래프는 서로 같지만 풍속이 다르게 나오는 것 같습니다.

혹시 제가 모르는 다른 요소가 있거나 제가 잘못생각한 점이 있다면 설명해주시면 감사하겠습니다.

그리고 혹시 괜찮으시다면 양극판에서는 어떤 물성치가 플라즈마 공간에 영향을 주는지 추가적으로 알고 싶습니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [333] 103300
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24714
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61521
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73517
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105942
494 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [Cleaning procedure 플라즈마 공정진단 기술] [1] 1941
493 플라즈마 관련 교육 [플라즈마 교육자료] [1] 1947
492 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [접촉 저항] [2] 1962
491 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [Radio-Frequency Plasma] [1] 1963
490 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [ESC와 Chamber impedance] [1] 1968
489 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [ICP match impedance] [1] 1979
488 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [Faraday shield] [1] 1988
487 N2, N2O Gas 사용시 Plasma 차이점 [N2 Plasma] [1] 2031
486 ICP lower power 와 RF bias [Self bias, Floating sheath] [1] 2041
485 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [표면 화학 반응] [1] 2046
484 가입인사드립니다. [1] 2059
483 ICP reflecot power [Insulator와 rf leak] [1] 2063
482 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [플라즈마 임피던스, 운전압력조절 방전 조건] [1] 2068
481 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! 2070
480 터보펌프 에러관련 [터보 펌프 구동 압력] [1] 2072
479 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [DC bias 형성 판단] [1] 2073
478 plasma 형성 관계 [Paschen's law, 플라즈마 주파수] [1] 2075
477 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [고전압 방전 및 DBD] [2] 2084
476 OES 분석 관련해서 질문드립니다. [Intensity 넓이 계산] [1] 2084
475 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [Matcher와 Plasma Impedence] [1] 2095
쓰기
태그

Boards

XE Login