Deposition 플라즈마 색 관찰

2018.05.08 14:21

우인범 조회 수:4301

안녕하세요, 반도체분야로 취업하려는 취업준비생입니다.


얼마전에 공정실습을 다녀왔었는데요. SiO2 를 PECVD로 증착하는 과정에서 플라즈마 관찰을 했었습니다. process gas로 N2O를 SiH4보다 많이 투입했음에도 불구하고 SiH4의 플라즈마 색이 관찰된 것에 대해서 이유를 분석해보라는 문제를 주셨습니다. 


당시에는 두 가스의 플라즈마 색이 갖는 파장이 합성됐을 때 푸리에와 관련해서 나온 현상이라고 이해했었는데, 다시생각해보니 정확한 정리가 잘 되지 않았습니다.


이 현상에 대해서 피드백을 받을 수 있을까요??

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76875
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20274
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57199
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68752
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92698
457 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [1] 4215
456 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 4167
455 RPSC 관련 질문입니다. [2] 4057
454 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 3994
453 the lines of magnetic  induction are frozen into the perfectly conducting material에 대한 질문 [1] file 3979
452 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3973
451 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 3963
450 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 3961
449 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] 3870
448 DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [2] 3842
447 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 3807
446 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 3760
445 Descum 관련 문의 사항. [1] 3744
444 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 3715
443 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 3658
442 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] 3646
441 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 3563
440 ESC Cooling gas 관련 [1] 3559
439 방전에서의 재질 질문입니다. [1] 3559
438 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 3557

Boards


XE Login