안녕하세요. 카이스트에서 석사 1년차로 있는 대학원생입니다.

 

Single probe로 electron energy probability distribution을 구할 때, low energy electron은 bulk plasma에서 평형 상태에 도달한 전자들을 지칭하고 high energy electron은 cathode에서 방출되고 probe sheath를 통해 bulk plasma로 가속되는 전자들을 지칭하는 것으로 알고 있습니다.

 

이 두 그룹의 전자들을 구분할 수 있는 식이 따로 있는지 궁금합니다. 실험을 통해 얻은 EEPF에서 몇 eV부터 몇 eV까지는 low energy electrons이고 몇 eV부터 몇 eV까지는 high electrons이다 라는 형태의 답을 얻고 싶습니다.

 

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [160] 73034
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17630
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 55517
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 65701
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 86031
366 방전에서의 재질 질문입니다. [1] 3454
365 플라즈마 색 관찰 [1] 3384
364 RPSC 관련 질문입니다. [2] 3272
363 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [1] 3246
362 DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [2] 3222
361 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 3178
360 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 3153
359 ESC Cooling gas 관련 [1] 3147
358 아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서 3109
357 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [2] 3090
356 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] 3062
355 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 2995
354 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 2946
353 Descum 관련 문의 사항. [1] 2939
352 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 2928
351 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 2885
350 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 2866
349 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] 2832
348 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 2809
347 M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 2789

Boards


XE Login