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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [N2 플라즈마]
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PEALD관련 질문 [Passivation 막 증착 과정]
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473 |
N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [충돌 반응 및 전력 전달 모델]
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472 |
dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [표면 하전 특성 및 chucking 불안정성]
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Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다. [플라즈마 식각기술, Plasma Etching]
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기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다.
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ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [Self bias 및 플라즈마 방전 매커니즘]
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468 |
VPS 공정에서 압력변수관련 질문입니다. [VPS]
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467 |
임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [플라즈마 dielectric property]
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쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [Ambipolar diffusion]
[1] | 1452 |
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465 |
Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [전자 소실 및 플라즈마 전위]
[3] | 1818 |
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상압플라즈마 제품 원리 질문드립니다 [I-V characteristic 방전 커브]
[2] | 1317 |
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식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [소자 식각 데미지]
[1] | 2657 |
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462 |
plasma etching을 관련 문의드립니다. [반도체 공동 연구소]
[1] | 2663 |
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461 |
Wafer particle 성분 분석 [플라즈마 세정]
[1] | 2685 |
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460 |
고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [플라즈마 물리/화학적 특성, 중성입자 거동 및 자기장 성질]
[1] | 4704 |
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459 |
charge effect에 대해 [Self bias 및 capacitively couple]
[2] | 1898 |
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458 |
PECVD 증착에서 etching 관계 [PECVD 증착]
[1] | 2349 |
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457 |
터보펌프 에러관련 [터보 펌프 구동 압력]
[1] | 2110 |
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456 |
프리쉬스에 관한 질문입니다. [Ambipolar diffusion 및 collisionless sheath]
[1] | 929 |
