안녕하세요. 한국기계연구원과 전기집진기 관련하여 테스트를 진행중인데,

여기에 플라즈마나 랭뮤어프로브와 유사한 기술이 관련있는 것으로 알고있습니다.

400mm*400mm 사이즈의 2개의 판재가 200mm 간격으로 배열되어있고, 그 중간 지점에 방전침이 있습니다.

방전판과 방전침 사이에 20kV정도 고전압을 인가하면 파란 방전이 약하게 형성됩니다.

X,Y,Z축으로 움직일 수 있는 모션 스테이지 끝부분에 알루미나로 외부를 절연시킨 탐침침을 고정했습니다.

프로브를 밀어넣어 멀티미터로 측정하여 아래 그림와 같은 결과가 나왔습니다.

2018-09-18_093510.png

저는 단순히 멀티미터에 방전판을 공통라인으로 연결하고 프로브에서 측정하였습니다만.

바이어스전압을 인가하여 측정을 해야한다는데, 바이어스전압이 어떤 의미인지? 어떻게 연결하여야하는지 도움을 받고 싶습니다.

현재는 프로브에 반대극성의 고전압을 연결하여 측정하는 방법을 생각중에 있습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76863
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20264
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57197
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68750
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92658
437 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] 3550
436 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 3474
435 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3449
434 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] 3446
433 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 3434
432 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 3423
431 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 3350
430 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 3334
429 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [2] 3332
428 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 3330
427 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 3235
426 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 3227
425 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 3207
424 M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 3169
423 아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서 3167
422 CVD 공정에서의 self bias [1] 3148
421 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 3058
420 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 3004
419 Plasma etcher particle 원인 [1] 2999
418 RF matcher와 particle 관계 [2] 2963

Boards


XE Login