공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[220]
| 75427 |
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 19163 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 56479 |
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 67558 |
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 89368 |
388 |
CVD 공정에서의 self bias
[1] | 2488 |
387 |
산소양이온의 금속 전극 충돌 현상
[1] | 2543 |
386 |
임피던스 매칭회로
[1] | 2579 |
385 |
Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다.
[1] | 2579 |
384 |
플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다.
[1] | 2586 |
383 |
Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다.
[2] | 2587 |
382 |
RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다.
[2] | 2603 |
381 |
PR wafer seasoning
[1] | 2615 |
380 |
Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다.
[2] | 2627 |
379 |
Plasma etcher particle 원인
[1] | 2641 |
378 |
플라즈마 압력에 대하여
[1] | 2649 |
377 |
VI sensor를 활용한 진단 방법
[2] | 2655 |
376 |
PECVD Precursor 별 Arcing 원인
[1] | 2673 |
375 |
HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의
[1] | 2699 |
374 |
HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요?
| 2746 |
373 |
matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다.
[3] | 2781 |
372 |
RIE에서 O2역할이 궁금합니다
[4] | 2809 |
371 |
electron energy distribution에 대해서 질문드립니다.
[2] | 2828 |
370 |
plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다.
[2] | 2921 |
369 |
Plasma 에칭 후 정전기 처리
[3] | 2930 |