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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 20242 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요?
[1] | 3535 |
434 |
Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다.
[1] | 3465 |
433 |
코로나 방전의 속도에 관하여...
[1] | 3444 |
432 |
Bias 관련 질문 드립니다.
[1] | 3435 |
431 |
RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다.
[1] | 3423 |
430 |
plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다.
[2] | 3403 |
429 |
RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다.
[2] | 3334 |
428 |
Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다.
[2] | 3327 |
427 |
PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다.
[1] | 3326 |
426 |
PECVD Precursor 별 Arcing 원인
[1] | 3317 |
425 |
electron energy distribution에 대해서 질문드립니다.
[2] | 3218 |
424 |
Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다.
[2] | 3214 |
423 |
matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다.
[3] | 3198 |
422 |
아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서
| 3166 |
421 |
M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다.
[1] | 3165 |
420 |
CVD 공정에서의 self bias
[1] | 3124 |
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Plasma 에칭 후 정전기 처리
[3] | 3056 |
418 |
Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다.
[1] | 2991 |
417 |
Plasma etcher particle 원인
[1] | 2982 |
416 |
RF matcher와 particle 관계
[2] | 2941 |