안녕하세요~

Plasma로 Wafer에 위에 감광액의 Ashing하는 설비를 담당하는 구태영이라고 합니다.

현 장비는 M/W,RF와 O2,N2를 사용하여  Plasma를 생성하고 있습니다.

진공챔버 내에 Plasma 발생시 Wafer 주위에 분홍빛이 나며, 그 위에는 백색빛이 나면서 Plasma가 형성됩니다.

분홍빛은 Bias에 의한 Plasma 밀도랑 관련있다고 알고 있습니다.

여기서 제가 궁금한점 문의드리겠습니다.

1) 분홍빛이 띄는 곳이 Plama의 밀집 되어 있는 부분이 맞는가요?

2) 분홍빛과 백색빛의 차이를 알고 싶습니다.

3) Plasma에 의하여 Wafer에 Damage를 발생할 수 있는 부분을 알고 싶습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [333] 103382
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24721
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61544
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73525
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105970
474 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [하전에 의한 전기장 형성 및 방전 시간] [1] 4301
473 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [Standing wave 및 플라즈마 밀도 분포] [1] 4276
472 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [Breakdown 전기장, 아크 방전] [3] 4239
471 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [Self bias와 DC offset] [1] 4239
470 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [Etch와 IEDF] [2] 4227
469 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [표면 하전 특성 및 chucking 불안정성] [1] 4218
468 DC스퍼터링과 RF 스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [플라즈마 생성과 Sputtering] [2] 4213
467 the lines of magnetic induction are frozen into the perfectly conducting material에 대한 질문 [Ideal MHD plasma의 magnetic flux conservation] [1] file 4112
466 Bias 관련 질문 드립니다. [Ion plasma frequency] [1] 4103
465 RF matcher와 particle 관계 [DC glow 방전, 플라즈마 임피던스] [2] 4092
464 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [Arc와 cleaning] [1] 4069
463 ESC Cooling gas 관련 [ESC 온도 제어] [1] 3976
462 CVD 공정에서의 self bias [이차 전자 생성, 입사 이온 에너지 분포] [1] 3959
461 Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련 [Sheath 전위 형성] [3] 3859
460 방전에서의 재질 질문입니다. [방전과 전압] [1] 3794
459 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [회로 모델 및 부품 impedance] [3] 3755
458 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [Flow rate와 moral ratio, resident time] [1] 3754
457 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [Maxwallian EEDF] [2] 3752
456 코로나 방전의 속도에 관하여 [코로나 방전의 이해] [1] 3748
455 Plasma etcher particle 원인 [Particle issue와 wafer의 sheath] [1] 3638

Boards


XE Login