안녕하세요. 코로나 방전에 상당히 관심이 많은 학생입니다. 다름아니라 코로나 방전에 대해 묻고 싶은게 있는데, 전극으로부터 방전이 일어나고 나서 일정 거리 떨어진 실린더에 방전된 전자가 도착하는 시간은 외부 조건에 따라 몇 초정도 되나요? (외부 조건: 공기 밀도, 유전율, 실린더까지의 거리, 전위 등등...) 그리고 코로나 모터에 대해서도 질문할 게 있습니다. 코로나 모터의 원리가 무엇인지 정확히 설명해 주세요~~

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 103101
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24696
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61478
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73500
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105901
473 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [하전에 의한 전기장 형성 및 방전 시간] [1] 4270
472 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [Standing wave 및 플라즈마 밀도 분포] [1] 4255
471 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [Self bias와 DC offset] [1] 4233
470 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [Breakdown 전기장, 아크 방전] [3] 4228
469 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [Etch와 IEDF] [2] 4221
468 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [표면 하전 특성 및 chucking 불안정성] [1] 4213
467 DC스퍼터링과 RF 스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [플라즈마 생성과 Sputtering] [2] 4206
466 the lines of magnetic induction are frozen into the perfectly conducting material에 대한 질문 [Ideal MHD plasma의 magnetic flux conservation] [1] file 4110
465 Bias 관련 질문 드립니다. [Ion plasma frequency] [1] 4092
464 RF matcher와 particle 관계 [DC glow 방전, 플라즈마 임피던스] [2] 4076
463 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [Arc와 cleaning] [1] 4060
462 ESC Cooling gas 관련 [ESC 온도 제어] [1] 3972
461 CVD 공정에서의 self bias [이차 전자 생성, 입사 이온 에너지 분포] [1] 3950
460 Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련 [Sheath 전위 형성] [3] 3846
459 방전에서의 재질 질문입니다. [방전과 전압] [1] 3792
458 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [Maxwallian EEDF] [2] 3751
» 코로나 방전의 속도에 관하여 [코로나 방전의 이해] [1] 3746
456 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [회로 모델 및 부품 impedance] [3] 3744
455 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [Flow rate와 moral ratio, resident time] [1] 3741
454 Plasma etcher particle 원인 [Particle issue와 wafer의 sheath] [1] 3626

Boards


XE Login