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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [Plasma chemistry]
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EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [Plasma spectroscopy]
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471 |
ICP와 CCP에서의 Breakdown voltage [Breakdown과 E-H transition]
[1] | 2099 |
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470 |
CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [Wafer bias와 chuck cap]
[1] | 2109 |
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469 |
유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [전기장 내 입자 거동]
[2] | 2121 |
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468 |
PECVD 증착에서 etching 관계 [PECVD 증착]
[1] | 2137 |
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467 |
13.56MHz resonator 해석 관련 문의 [Resonator의 matching]
[1] | 2152 |
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466 |
ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화 [Excitation transfer 반응과 방사천이율]
[1] | 2181 |
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465 |
N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [N2 Ionizer 이온 및 중성 입자 해석]
[1] | 2200 |
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464 |
RF FREUNCY와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [CCP와 ionization]
[1] | 2220 |
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463 |
RF 전압과 압력의 영향? [DC glow 방전, Paschen's Law]
[1] | 2228 |
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462 |
wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [ER과 self bias]
[1] | 2245 |
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3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [Wave guide 및 matcher position 변화]
[1] | 2257 |
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플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!? [Breakdown voltage 및 이온화 에너지]
[1] | 2258 |
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CVD품질과 RF Delibery power 관계 질문 [RF power와 plasma information]
[1] | 2264 |
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458 |
잔류가스분석기(RGA)에 관하여 질문드립니다. [군산대학교 주정훈 교수님]
[1] | 2299 |
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457 |
ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다. [Ion energy와 heat, sheath energy]
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456 |
standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [Standing wave 운전 조건, 안테나 설계]
[1] | 2358 |
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455 |
RF generator 관련 문의드립니다 [Matcher와 line damage]
[3] | 2362 |
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454 |
쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [Floating sheath]
[1] | 2367 |
