안녕하세요.

반도체업계 종사자인 이우림이라고 합니다


다름이 아니라 300mm wafer위에 파티클 오염 분석을 진행중인데요.

혹시 300mm wafer를 coupon이 아닌 full wafer 상태로 삽입하여 wafer위의 파티클 성분 분석이 가능한 장비를 보유한 연구소를 알고 계신지요?

향후 분석에 꼭 필요한데 해당 장비 보유한 연구소를 찾지 못하는 상황입니다.

혹은 장비 관련 정보라도 알려주시면 감사하겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [271] 76764
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20221
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57173
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68713
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92340
430 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다. [1] 2131
429 플라즈마 관련 기초지식 [1] 2132
428 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] 2173
427 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 2232
426 플라즈마볼 제작시 [1] file 2239
425 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] 2240
424 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 2240
423 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] 2242
422 etching에 관한 질문입니다. [1] 2262
421 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 2268
420 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2272
419 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2282
418 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 2308
417 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 2315
416 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2316
415 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 2320
414 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2320
413 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2321
» Wafer particle 성분 분석 [1] 2322
411 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 2323

Boards


XE Login