Etch Dry Etching Uniformity 개선 방법

2016.03.02 17:46

돌맹 조회 수:4271

안녕하세요? nano imprint 및 etching을 이용하여 패턴 가공을 하는 직장인 입니다.

Al 에칭 시 전체적인 Uniformity가 잘나오지 않습니다. 항상 한쪽으로(같은 방향) 쏠리어 에칭이 됩니다.

여러 조건들 SRC,Bias 파워,유량 조절, 압력 조절 등 조건 변경하여 해보았으나 마찬가지 형태로 진행이 됩니다.

Etcher 장비는 최대 8inch 까지 가능한 장비이며 에칭 가스는 Cl2, BCl3 사용 중입니다.


uniformity 개선 관련하여 어떠한 방법이 있을까요?

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76731
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20201
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68701
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92280
429 플라즈마 관련 기초지식 [1] 2128
428 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] 2173
427 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] 2220
426 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 2227
425 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 2234
424 플라즈마볼 제작시 [1] file 2236
423 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] 2239
422 etching에 관한 질문입니다. [1] 2260
421 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 2261
420 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2270
419 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2281
418 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 2306
417 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 2313
416 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 2314
415 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2314
414 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2315
413 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2316
412 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 2317
411 Wafer particle 성분 분석 [1] 2320
410 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 2320
쓰기
태그

Boards

XE Login