Monitoring Method Wafer particle 성분 분석

2019.03.26 06:46

키보드매니아 조회 수:2379

안녕하세요.

반도체업계 종사자인 이우림이라고 합니다


다름이 아니라 300mm wafer위에 파티클 오염 분석을 진행중인데요.

혹시 300mm wafer를 coupon이 아닌 full wafer 상태로 삽입하여 wafer위의 파티클 성분 분석이 가능한 장비를 보유한 연구소를 알고 계신지요?

향후 분석에 꼭 필요한데 해당 장비 보유한 연구소를 찾지 못하는 상황입니다.

혹은 장비 관련 정보라도 알려주시면 감사하겠습니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [303] 78037
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20847
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57737
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69253
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93632
459 N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [1] 1928
458 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] 1934
457 3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [1] 1960
456 RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [1] 1960
455 RF PLASMA를 사용한 J.R ESC DECHUCK에 대하여 문의드립니다. [1] 1964
454 13.56MHz resonator 해석 관련 문의 [1] 1993
453 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [1] 1996
452 매칭시 Shunt와 Series 값 [1] 2013
451 플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!? [1] 2024
450 잔류가스분석기(RGA)에 관하여 질문드립니다. [1] 2028
449 RF generator 관련 문의드립니다 [3] 2032
448 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] 2043
447 Remote Plasma 가 가능한 이온 [1] 2053
446 chamber impedance [1] 2055
445 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [1] 2056
444 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 2058
443 ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다. [2] 2063
442 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 2082
441 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 2087
440 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 2091
쓰기
태그

Boards

XE Login