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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[160]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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347 |
CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요?
[3] | 2791 |
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346 |
챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다.
[2] | 2765 |
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345 |
Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다.
[1] | 2749 |
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344 |
CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다.
[3] | 2674 |
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343 |
electron energy distribution에 대해서 질문드립니다.
[2] | 2645 |
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342 |
진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해
[1] | 2636 |
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341 |
HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요?
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340 |
플라즈마 압력에 대하여
[1] | 2579 |
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339 |
dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요?
[1] | 2541 |
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338 |
PR wafer seasoning
[1] | 2520 |
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337 |
HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의
[1] | 2506 |
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336 |
산소양이온의 금속 전극 충돌 현상
[1] | 2487 |
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335 |
plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다.
[2] | 2484 |
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334 |
플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다.
[1] | 2481 |
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333 |
VI sensor를 활용한 진단 방법
[2] | 2476 |
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332 |
플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요?
[1] | 2469 |
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331 |
Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문
[3] | 2357 |
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330 |
Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다.
[2] | 2352 |
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329 |
Plasma etcher particle 원인
[1] | 2330 |
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328 |
임피던스 매칭회로
[1]  | 2329 |
