개인정보 노출 주의 부탁드립니다.

2010.12.10 13:44

관리자 조회 수:57163 추천:86

1. 관련 : “공공기관의 개인정보보호에 관한 법률”, 중앙전산원-3921(2010.11.17)
2. 위 법률에서는 홈페이지의 구축∙운영하는 과정에서 개인정보가 노출 또는 유출 되지 않도록 관리적∙기술적인 안전성 확보를 강조하고 있습니다.
3. 또한, 개인정보 사고 발생 시 벌칙(최고 10년이하의 징역)과 양벌규정으로 처벌을 하도록 되어있어 개인정보와 관련 홈페이지 관리자의 세심한 주의와 관리가 필요합니다.
4. 최근 학내에서는 게시판 관리자의 관리소홀로 인한 홈페이지에 개인정보 노출 사고가 발생하는 등 지속적인 개인정보 관련 사고가 발생하고 있는바, 홈페이지를 운영하고 있는 전 기관은 개인정보가 홈페이지 게시판 및 서버에 존재하는지를 반드시 점검하여 삭제조치 바랍니다.

가. 대    상 : 학내에서 운영중인 홈페이지 전체  
나. 점검방법 : [붙임2] 참조 (미제출시 웹서비스가 차단될 수 있음)

5. 아울러, 향후 학내 전체 개인정보보호 계획 수립 시 규모산정 및 기초자료 활용을 위해 학내 홈페이지의 게시판 세부정보 조사를 병행하오니 적극적인 협조 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [267] 76710
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20163
» 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57163
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68685
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92246
428 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 3498
427 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] 3443
426 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 3439
425 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3410
424 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 3403
423 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 3378
422 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 3323
421 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [2] 3321
420 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 3286
419 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 3267
418 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 3198
417 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 3188
416 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 3176
415 아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서 3165
414 M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 3162
413 CVD 공정에서의 self bias [1] 3093
412 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 3052
411 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 2965
410 Plasma etcher particle 원인 [1] 2962
409 RF matcher와 particle 관계 [2] 2909

Boards


XE Login