안녕하세요 김곤호 교수님.

저는 코로나 방전 공부를 하고 있는 대학원생입니다.

다름이 아니라 재질에 대해 질문 드리고 싶은데요,

저는 재질을 스테인리스, 황동, 텅스텐 3종류를 바꿔가면서 방전 실험을 했습니다.

제가 비슷한 글을 찾아본 결과 음극판의 2차 전자방출계수가 높은것 일수록 플라즈마 공간 유지에 좋다고 봤습니다.

그렇다면 재질이 바뀌면 전류-전압 그래프가 서로 다르게 나와야 되는게 아닌가 싶습니다.

하지만 재질을 바꿨을 경우 전류-전압은 그대로인데 풍속만 차이가 있었습니다. 여기서 풍속은 이온풍입니다.

즉 2차 전자방출계수 말고도 다른 요소에 의해서 전류-전압 그래프는 서로 같지만 풍속이 다르게 나오는 것 같습니다.

혹시 제가 모르는 다른 요소가 있거나 제가 잘못생각한 점이 있다면 설명해주시면 감사하겠습니다.

그리고 혹시 괜찮으시다면 양극판에서는 어떤 물성치가 플라즈마 공간에 영향을 주는지 추가적으로 알고 싶습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] 77294
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20491
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57409
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68940
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92987
» 방전에서의 재질 질문입니다. [1] 3568
449 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 3559
448 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 3510
447 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3506
446 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 3480
445 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 3470
444 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] 3454
443 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 3400
442 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [2] 3351
441 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 3349
440 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 3343
439 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 3283
438 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 3255
437 CVD 공정에서의 self bias [1] 3224
436 M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 3205
435 아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서 3168
434 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 3086
433 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 3079
432 Plasma etcher particle 원인 [1] 3075
431 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] 3071

Boards


XE Login