안녕하세요. 대기압 플라즈마 관련 회사를 다니고 있는 청년입니다.

최근에 보다 높은 밀도의 플라즈마를 얻기 위한 공부를 하고 있습니다.

플라즈마의 밀도가 높아지면 라디컬의 밀도도 높아지고 그에 따라 처리효과 (예를 들면 오염물 제거) 도 좋아 질 것이라고 생각합니다.

특허에 있는 방법으로는 반응기 자체를 가열 하는 방법이 있었습니다.

그외에 플라즈마 밀도를 높이기 위한 방법은 없는지 궁금합니다.

플라즈마에 대한 지식이 짧아 질문이 정확하지 못합니다. 죄송합니다 ㅠㅠ

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [253] 76392
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19972
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57060
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68530
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91235
413 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] 3431
412 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 3348
411 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 3335
410 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3319
409 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 3295
408 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [2] 3287
407 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 3275
406 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 3238
405 아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서 3160
404 M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 3124
403 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 3113
402 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 3112
401 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 3098
400 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 3066
399 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 3014
398 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 3012
397 CVD 공정에서의 self bias [1] 2956
396 Plasma etcher particle 원인 [1] 2885
395 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 2868
394 HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의 [1] 2847

Boards


XE Login