안녕하십니까 교수님. 플라즈마를 이용하는 반도체 장비업체를 다니는 연구원입니다.

 

언제나 친절한 답변 감사 드립니다.

 

다름이 아니라 책을 통해서 Study를 하던 중 궁금한 것이 생겨서요.

 

Microwave plasma에 대해 공부하는데, Radio 와는 다르게 2.45GHz의 고주파 플라즈마를 형성하면

 

파장이 12.5cm로 훨씬 작아지게 되고 따라서 플라즈마의 크기도 이에 따라 작아진다고 하는데

 

왜 파장 길이 이상의 플라즈마 형성이 안되는 것인지 궁금합니다.

 

저는 지금 13.56MHz CCP방식으로 Chamber에 플라즈마를 형성하는데 이 주파수의 경우 파장의 길이보다 플라즈마가 형성되는 챔버의 크기가 훨씬 작게 되는데, 

 

플라즈마가 형성되는 공간이 파장보다 작은 것은 괜찮은데 더 큰것은 왜 안되는지 그 이유가 궁금합니다.

감사합니다

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76878
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20274
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57199
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68752
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92704
437 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] 3551
436 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 3488
435 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3457
434 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] 3448
433 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 3443
432 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 3430
431 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 3360
430 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 3343
429 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [2] 3332
428 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 3330
427 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 3242
426 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 3241
425 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 3208
424 M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 3170
423 아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서 3167
422 CVD 공정에서의 self bias [1] 3152
421 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 3060
420 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 3013
419 Plasma etcher particle 원인 [1] 3005
418 RF matcher와 particle 관계 [2] 2972

Boards


XE Login