Plasma in general Descum 관련 문의 사항.
2018.10.26 09:58
안녕하세요. 반도체 회산 근무중인 사람인데요.
궁금증이 있어 몇가지 질문 드립니다.
1. Descum 기본 원리
*. RF + O2 를 이용한 Plasma 발생 및 Descum 진행 원리
*. RF + MW + O2 를 이용한 Plasma 발생 및 Descum 진행 원리
2. Descum 시 발생하는 광원에 대하여..
*. Descum 시 발생하는 광원의 종류
è Plasma 발생 파장에 따른 Graph화된 자료가 있으면 좀 더 쉽게 이해 될 것 같습니다.
è 해당 광원이 UV에 해당하는 광원 인가요?
3. RF Generator
*. RF Generator의 기본적인 역할
*. RF Generator가 파장의 변화를 줄 수 있는지?(공정 조건은 동일하다는 가정하에)
질문이 많아 죄송합니다.
답변 부탁 드립니다.
감사합니다.
1 . 플라즈마 생성을 위해서는 에너지 원이 필요하며, DC/ RF/ u-wave 등의 전원으로 부터 전기장을 공급하여 가속 전자에 의한 이온화 과정을 통해서 플라즈마가 생성됩니다. 일련의 플라즈마 생성 메카니즘에 대해서 본 게시판에 상세히 설명이 된 바 있으니 찾아 보시기 바랍니다.
2. 당연히 세정된 metal particle 이 플라즈마 내에서 빛을 낼 수 있습니다. 먼저, 플라즈마에서 발생하는 빛은 가속된 전자에 의해서 원자/분자/이온이 여기되었다가 기정상태로 에너지를 잃는 과정에 발생하는 빛입니다. 따라서 가시영역에는 3-4eV의 여기 반응이 존재했음을 알 수 있으며 UV 등은 눈에 보이지 않습니다. 이들 플라즈마에서 발생되는 이들 빛들은 원자/ 분자 들이 갖는 고유특성을 대변하므로, 즉 특정 파장이 관찰이 되면 어떤 원자가 여기해서 빛을 내는 가를 알 수 있어, 반응원자 종 및 그 세기로 부터 얼마나 많은 수가 여기 반응에 참여했는가를 추적할 수가 있습니다. 대부분 광진단 (OES) 방법으로 진단을 하게 됩니다. 역시 본 게시판에 광진단/ 스펙트로스코피/ 여기 반응 등을 찾아 보시면 도움이 되실 것 입니다.
3. RF 제너레이터는 1항의 질문에 연장입니다. RF 의 주파수는 플라즈마 가열에 지대한 영향을 미치게 됩니다. 따라서 주파수와 파워는 모두 플라즈마 가열에 영향을 미치며, 여기되는 확률과 어떤 에너지 상태의 여기를 이룰 수 있는가의 변화의 원인이 됩니다. 여기 결과는 2항에서 말씀 드린 바와 같이 빛을 내는 과정이므로, 전력이나 전원 주파수에 따라서 관찰되는 빛의 파장 크기 분포가 바뀌게되었다면, 플라즈마 가열현상이 일어나고 있다고 생각할 수가 있습니다. 아울러 분광신호가 커지고 있다면 라디컬 생성과 이온 생성도 커질 수 있음으로 공정이 빠르게 될 수 있겠습니다.