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공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57066
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68542
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91340
159 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 335
158 PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] 372
157 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 568
156 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 914
155 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 336
154 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 573
153 OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [1] 28640
152 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 710
151 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2356
150 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 911
149 RF Sputtering Target Issue [2] file 531
148 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [1] 1729
147 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 519
146 Polymer Temp Etch [1] 608
145 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 428
144 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 586
143 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 989
142 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 1027
141 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 836
140 doping type에 따른 ER 차이 [1] 2011

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