공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[158]
| 72995 |
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 17585 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 55512 |
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 65685 |
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 86011 |
135 |
Uniformity 관련하여 문의드립니다.
[1] | 799 |
134 |
텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다.
[1] | 711 |
133 |
안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다.
[1] | 529 |
132 |
[Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련]
[3] | 1489 |
131 |
플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다.
[1] | 1439 |
130 |
플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다.
[1] | 577 |
129 |
타겟 임피던스 값과 균일도 문제
[1] | 315 |
128 |
엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다.
[1] | 738 |
127 |
O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의
| 905 |
126 |
안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다
[2] | 531 |
125 |
접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다
[1] | 517 |
124 |
Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계.
[2] | 772 |
123 |
[RIE] reactive, non-reactive ion의 역할
[1] | 1382 |
122 |
O2 Asher o-ring 문의드립니다.
[1] | 660 |
121 |
Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate
[1] | 1651 |
120 |
Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다.
[1] | 1069 |
119 |
Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다.
[1] | 836 |
118 |
Plasma etch관련 질문이 드립니다.
[1] | 975 |
117 |
질문있습니다 교수님
[1] | 17023 |
116 |
CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문
[1] | 1203 |