개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
2010.12.10 13:44
1. 관련 : “공공기관의 개인정보보호에 관한 법률”, 중앙전산원-3921(2010.11.17)
2. 위 법률에서는 홈페이지의 구축∙운영하는 과정에서 개인정보가 노출 또는 유출 되지 않도록 관리적∙기술적인 안전성 확보를 강조하고 있습니다.
3. 또한, 개인정보 사고 발생 시 벌칙(최고 10년이하의 징역)과 양벌규정으로 처벌을 하도록 되어있어 개인정보와 관련 홈페이지 관리자의 세심한 주의와 관리가 필요합니다.
4. 최근 학내에서는 게시판 관리자의 관리소홀로 인한 홈페이지에 개인정보 노출 사고가 발생하는 등 지속적인 개인정보 관련 사고가 발생하고 있는바, 홈페이지를 운영하고 있는 전 기관은 개인정보가 홈페이지 게시판 및 서버에 존재하는지를 반드시 점검하여 삭제조치 바랍니다.
가. 대 상 : 학내에서 운영중인 홈페이지 전체
나. 점검방법 : [붙임2] 참조 (미제출시 웹서비스가 차단될 수 있음)
5. 아울러, 향후 학내 전체 개인정보보호 계획 수립 시 규모산정 및 기초자료 활용을 위해 학내 홈페이지의 게시판 세부정보 조사를 병행하오니 적극적인 협조 부탁드립니다.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [309] | 78473 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 21040 |
» | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57867 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 69400 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 93945 |
172 | 스퍼터링시 시편 두께와 박막두께 [박막의 하전량 변화] [1] | 21744 |
171 | UBM 스퍼터링 장비로… [UBM과 열팽창 및 coating] [1] | 20955 |
170 | plasma cleanning에 관하여 [Sputtering과 Etch] | 20886 |
169 | wafer 전하 소거: 경험 있습니다. | 20515 |
168 | RIE장비 에서 WALL 과 TOP 온도 | 20469 |
167 | Sputter 시에 Gas Reaction 에 대해 문의 드립니다. | 20315 |
166 | DCMagnetron Sputter에서 (+)전원 인가시 [플라즈마 부유 전위] | 19746 |
165 | DC SPT 문의 [절연체의 전위] | 19711 |
164 | 플라즈마를 이용한 폐기물 처리 [코로나 방전, 먼지 집진] | 19668 |
163 | 플라즈마를 이용한 박막처리 | 19553 |
162 | H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문 입니다. [2] | 19507 |
161 | Full Face Erosion 관련 질문 [2] | 19497 |
160 | 플라즈마의 환경이용 | 18798 |
159 | 물리적인 sputterting | 18412 |
158 | sputtering | 18335 |
157 | 증착에 대하여... | 18139 |
156 | Splash 발생 및 감소 방안은 없는지요? [Splash와 TG Maker] | 18086 |
155 | Plasma of Bio-Medical Application | 18025 |
154 | 플라즈마 응용분야 | 17904 |
153 | 안녕하세요 반도체 공정 중 용어의 개념이 헷갈립니다. [공정 용법] [1] | 17896 |