Others ICP 후 변색 질문

2018.01.23 19:11

Wafer 조회 수:725

안녕하십니까.

현재 반도체 회사에서 근무하고 있습니다.

ICP 공정 중 일어나는 Sapphire wafer (Al2O3) 변색 관련 질문 드립니다.

BCl3 gas를 이용한  ICP 진행 중 간간히 wafer가 옅은 노란색을 띄는 황변이 발생하고 있고.

황변 발생 wafer는 재열처리로 황변을 제거 하고 있습니다. (가끔 황변이 제거 안되는 경우도 있습니다.)

이와 관련.  

1. Oxygen의 숫자 부족

2. Al3 + vacancy 과도의 이유로 추정하고 있습니다.

Ingot 자체의 물성(?)이 원인이라고 파악하고 있는데.

혹시, ICP 진행 중 어떠한 화학반응에 의해 황변이 발생할 가능성이 있는지요.

어떠한 내용이라도 좋습니다.

위 황변 내용과 관련하여 다른 의견이나 지식을 얻고 싶습니다.

ICP 진행 중 wafer 황변 발생의 원인과 그에 따른 해결 방안 혹은 점검 내용이 있다면 알려주시길 부탁드립니다.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76725
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20172
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57165
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68696
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92273
162 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 401
161 PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [1] 423
160 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 470
159 magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] 472
158 remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] 485
157 PECVD Uniformity [1] 502
156 Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다. [1] 509
155 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 541
154 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 544
153 RF Sputtering Target Issue [2] file 595
152 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 604
151 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 609
150 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 613
149 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 636
148 Polymer Temp Etch [1] 659
147 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 669
146 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 694
145 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 695
144 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 709
143 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 724

Boards


XE Login