안녕하세요, 의료기기 회사에 재직중인 회사원입니다.

 

최근 사내 내부학습 개념으로 패럴린과 같은 고분자화합물 과 플라즈마 표면처리, 에칭 등의 공부를 하고 있습니다.

스스로나 주변에도 해당 지식이 없는 사람들 뿐이라 인터넷으로 겨우겨우 찾아보며 알아가는 실정입니다.

 

질문드리고자 하는 내용은 에칭과 표면처리에 대한 차이점 입니다.

 

먼저 제가 이해하고 있기로는

표면처리는 보드기판이나 어떠한 물질에 고분자화합물을 코팅하게 되면 증착이 잘 되지 않으므로

플라즈마를 이용해 표면처리(활성화) 를 한 뒤 코팅을 하여 증착력을 높히는 것 과

에칭은 증착된 코팅물질을 없애는 방법 이라고 이해 했습니다.

 

헌데 표면처리 라는 것도 보드의 표면에 있는 이물질이나 원자? 등을 제거하는 것이라고도 생각이 되는데

그렇다면 표면처리를 오래 한다거나 강하게 하면 그것이 에칭이 되는것인가요?

표면처리에 사용되는 제품은 에칭으로는 사용을 못하는 것인가요?

 

질문의 수준이 매우 낮을지도 모르겠네요... 이해 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [143] 5835
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17290
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 53125
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64509
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 85123
134 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 642
133 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 505
132 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 1356
» 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 1374
130 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 535
129 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 300
128 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 680
127 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 871
126 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 514
125 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 492
124 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 726
123 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 1293
122 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 641
121 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 1537
120 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 943
119 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 801
118 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 927
117 질문있습니다 교수님 [1] 16343
116 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1156
115 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 3951

Boards


XE Login