개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
2010.12.10 13:44
1. 관련 : “공공기관의 개인정보보호에 관한 법률”, 중앙전산원-3921(2010.11.17)
2. 위 법률에서는 홈페이지의 구축∙운영하는 과정에서 개인정보가 노출 또는 유출 되지 않도록 관리적∙기술적인 안전성 확보를 강조하고 있습니다.
3. 또한, 개인정보 사고 발생 시 벌칙(최고 10년이하의 징역)과 양벌규정으로 처벌을 하도록 되어있어 개인정보와 관련 홈페이지 관리자의 세심한 주의와 관리가 필요합니다.
4. 최근 학내에서는 게시판 관리자의 관리소홀로 인한 홈페이지에 개인정보 노출 사고가 발생하는 등 지속적인 개인정보 관련 사고가 발생하고 있는바, 홈페이지를 운영하고 있는 전 기관은 개인정보가 홈페이지 게시판 및 서버에 존재하는지를 반드시 점검하여 삭제조치 바랍니다.
가. 대 상 : 학내에서 운영중인 홈페이지 전체
나. 점검방법 : [붙임2] 참조 (미제출시 웹서비스가 차단될 수 있음)
5. 아울러, 향후 학내 전체 개인정보보호 계획 수립 시 규모산정 및 기초자료 활용을 위해 학내 홈페이지의 게시판 세부정보 조사를 병행하오니 적극적인 협조 부탁드립니다.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] | 76732 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20202 |
» | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57168 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68701 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92280 |
162 | 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] | 403 |
161 | PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [1] | 423 |
160 | AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 | 471 |
159 | magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] | 472 |
158 | remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] | 487 |
157 | PECVD Uniformity [1] | 507 |
156 | Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다. [1] | 519 |
155 | 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] | 542 |
154 | Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] | 547 |
153 | RF Sputtering Target Issue [2] | 597 |
152 | 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] | 604 |
151 | 기판표면 번개모양 불량발생 [1] | 609 |
150 | ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] | 615 |
149 | Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] | 636 |
148 | Polymer Temp Etch [1] | 663 |
147 | [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] | 669 |
146 | 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] | 694 |
145 | 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] | 696 |
144 | 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] | 715 |
143 | ICP 후 변색 질문 | 725 |