안녕하세요 Plasma를 이용하여 ALD 실험을 진행하고 있는 대학원생입니다.

 

다름이 아니라 어느 순간부터 plasma를 발생시키게 되었을 때 처음 발생시킬 때에는 플라즈마 빛의 세기도 매우 강하고 잘 생성이 된다고 생각이 들었는데 그 이후로 발생시킬 때는 플라즈마의 색깔도 조금 변하고 세기가 많이 약해집니다.

 

NH3, N2 plasma를 최근 이용하였을 때 계속해서 그러한 현상이 일어나고 있습니다.

 

이러한 현상에 대해서 혹시 원인을 알고 계셔서 알려주신다면 정말 감사드립니다 ㅠㅠ

 

아님 개인적인 소견이라도 말씀해주시면 정말 큰 도움이 될 것 같습니다 ㅠㅠ

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [313] 79710
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21376
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69749
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 94682
17 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [Ionization collision 및 Effective ionization energy] [1] 2547
16 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [PECVD와 PACVD] [1] 2160
15 RF FREUNCY와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [CCP와 ionization] [1] 2020
14 CVD품질과 RF Delibery power 관계 질문 [RF power와 plasma information] [1] 1933
13 Pecvd장비 공정 질문 [Dusty plasma와 벽면 particle 제어] [1] 1824
12 PECVD 증착에서 etching 관계 [PECVD 증착] [1] 1723
11 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [Matcher의 알고리즘] [1] 1533
10 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [수소의 확산과 쉬스에 의한 가속] [4] 1411
9 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [나노광전자 데이터 분석] [1] 1272
8 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 817
7 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 812
6 PECVD Uniformity [플라즈마 균일도 제어] [1] 762
5 magnetic substrate와 플라즈마 거동 [대면 재료의 전기적 특성와 플라즈마 쉬스의 변화] [3] 537
» PEALD장비에 관해서 질문드리고 싶습니다. [장비 세정 및 관리 규칙] [1] 495
3 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [박막] [1] 295
2 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 264
1 HF PLASMA DEPOSITION 시 POWER에 따른 DEP RATE 변화 [장비 플라즈마, Rate constant] [1] 170

Boards


XE Login