Plasma in general 압력과 플라즈마 크기의 관계가 궁금합니다. [Mean free path]
2021.02.16 15:54
안녕하세요.
국내 소재 기업에 근무하며 진공장비 및 박막 공정에 대해 공부하고 있는 이용섭입니다.
궁금한 점은
DC나 RF 플라즈마를 켜고 육안으로 봤을 때 압력에 따라 플라즈마의 크기(퍼지는 정도)에 차이가 발생합니다.
압력이 낮으면 플라즈마 크기가 커지고(퍼지고), 압력이 높아지면 플라즈마 크기가 작아지는 것으로 보입니다.
이러한 현상이 나타나는 이유(압력에 따라 플라즈마 크기가 달라지는 이유, 원리)가 궁금합니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [317] | 83115 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 22047 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 58812 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 70465 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 96529 |
804 | RF에 대하여... | 32386 |
803 | ICP 플라즈마에 관해서 [2] | 32296 |
802 | DC Bias Vs Self bias [전자 에너지 분포] [5] | 31813 |
801 | RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다. | 31793 |
800 | [Sputter Forward,Reflect Power] [Sputter와 matching] [1] | 31376 |
799 | [re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다. | 30302 |
798 | 플라즈마 밀도 [Langmuir 탐침과 플라즈마의 밀도] | 30295 |
797 | PECVD에서 플라즈마 demage가 발생 조건 [쉬스와 플라즈마 밀도에 의한 damage] | 29927 |
796 | matching box에 관한 질문 [ICP Source 설계] [1] | 29851 |
795 | 플라즈마의 정의 | 29602 |
794 | 물질내에서 전하의 이동시간 | 29432 |
793 | OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [Etching] [1] | 29306 |
» | 압력과 플라즈마 크기의 관계가 궁금합니다. [Mean free path] [1] | 29085 |
791 | 플라즈마를 이용한 오존 발생장치 [Ozone과 Plasma] | 29069 |
790 | Arcing [전하 축적에 의한 방전 개시] [1] | 28809 |
789 | 플라즈마와 자기장의 관계 | 28683 |
788 | 반도체 관련 질문입니다. | 28624 |
787 | esc란? | 28196 |
786 | sheath와 debye sheilding에 관하여 [전자와 이온의 흐름] | 28124 |
785 | 탐침법 | 28061 |
평균충돌거리 (collision mean free path) 개념을 공부해 보시면 쉽게 이해될 것 같습니다. 게시판에 관련 내용의 설명이 있으니 collision, 이온화 거리, mean free path 의 개념을 찾아 보시기를 추천합니다. 압력이 높으면 입자간의 거리가 짧아집니다. 따라서 플라즈마 전자들이 입자들과 충돌할 거리가 짧아지며, 충돌로 에너지를 잃고 충돌 사이에 에너지를 얻어야 하는데, 그 거리가 짧고 잦은 충돌을 하게 되니
전자들이 에너지 전달이 용이하지 않고, 따라서 플라즈마 생성 확률을 낮아지게 됩니다. 참고하셔서 관련 내용을 찾아 보시면 도움이 될 것 같습니다.