안녕하세요.

 

디스플레이관련 대학원생입니다.

 

전극 증착 연구로 인하여 RF 스퍼터를 사용하게 되었는데 사용을 안 한지 3년이 넘은 장비라 인수인계가 없어서 어려움을 겪고 있습니다..

 

몇 가지 문의드릴 것이 있어 조언을 구해봅니다.

 

1. 플라즈마 생성을 위해 MFC에서 Ar을 주입하고 있는데 set rate를 10sccm으로 하고 있습니다. Flow rate가 처음에는 10sccm으로 뜨지만 5분 정도 지나면 2정도로 급격하게 떨어집니다. 그에 따라 챔버 내의 진공도 내려가구요. Set rate를 상승시켜도 flow rate는 2에서 머물러 있는데 무엇이 문제인지 조언 부탁드립니다.

 

2. RF generator에서 power를 35W로 사용하고 있는데 relected power가 20W가 뜹니다. Power를 상승시키면 그에 따라 ref power도 증가하구요. 어떻게 ref power를 줄일 수 있을지 조언 부탁드립니다.

 

3. 전극으로 Mo와 Al을 증착을 해야 하는데 낮은 전력에서는 플라즈마가 뜨지 않고 최대 전력인 111W를 인가하여야 푸른색으로 플라즈마가 뜨고 전력을 내려도 유지가 됩니다. 어떤 문제인지 조언 부탁드립니다.

 

4. Ar의 플라즈마는 보라색으로 알고 있는데 항상 푸른빛이 도는 백색의 플라즈마가 뜹니다. 구글에 찾아보니 금속을 사용하면 그렇다. 산소 플라즈마가 발생하여 그렇다 이렇게 뜨는데 금속을 타겟으로 사용하면 보라색 플라즈마가 안 뜨는 것이 정상인지 조언 부탁드립니다.

 

5. 플라즈마가 뜨고 3 4mtorr에서 높아지지 않던 진공도가 급격히 38mtorr까지 상승하는데 문제가 있는 것인지 조언 부탁드립니다.

 

6. 가장 큰 문제는 시편을 slide glass로 사용하는데 Al이 증착되지 않습니다.. 시간 상으로는 Pre sputtering 1시간 증착 30분을 진행했는데 하나도 증착이 되어 있지 않습니다.. 방전만 일어나고 증착은 안되는 이유가 있다면 자문 부탁드립니다.

 

감사합니다.

 

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