안녕하십니까

 

광주과학기술원 박사과정 학생인 김현일입니다.

 

이번에 CCP장비를 제작하면서 

 

CCP장비 분석을 어떻게 해야할지 잘모르고 discharge에 문제가 있어 이렇게 문의드리게 되었습니다.

 

CCP 장비에서 electrode 사이에 인가되는 방전 전압 및 전류값을 측정하고싶은데

 

아래 그림과 같이 챔버 외부에서 high voltage probe로 측정을 하였을때 인가되는 전압을 방전전압으로 측정이 가능한지 알고 싶습니다.

 

그리고 전류는 접지되는 electrode에서 접지선에서 측정되는 전류로 측정을할수있는지 알고싶습니다.

 

스크린샷 2024-02-22 111047.png

 

그리고 현재 사용하는 RFPT사의 matcher장비의 impedence matching이 

 

CCP장비에서 발생하는 plasma의 밝기가 어느정도 이상으로 높아지면 impedance maching을 못맞추는 문제가 발생합니다.

 

인가 전압이 상승하면 CCP의 임피던스가 감소한다고 하던데 생성되기 쉬운 범위로 올라가면 impedance maching 범위를 벗어나는것은 아닌것으로 생각되는데 단순 장비의 문제인지 궁금합니다.(처음에 plasma가 발생하다 maching이 깨지고 장비가 제대로 매칭이 안됩니다.)

 

임피던스가 감소하면서 반대로 maching 범위 밖으로 나가는거라면 단순히 impedance matcher 안에있는 코일의 L값이 좀더 큰 코일로 교체하면되는지도 알고싶습니다.

 

긴 질문글 읽어주셔서 감사합니다.

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [284] 77276
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20485
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57401
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68922
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92971
788 플라즈마 설비에 대한 질문 121
787 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [1] 127
786 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 129
785 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 133
784 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 140
783 새삼스럽지만 챔버 내에 전류의 정의를 여쭤보고싶습니다. [1] 141
782 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [1] 144
781 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 145
780 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] 152
779 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] 159
778 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] 162
777 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 168
776 Microwave & RF Plasma [1] 174
775 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 176
774 sputtering 을 이용한 film depostion [1] 177
773 corona model에 대한 질문입니다. [1] 179
772 ICP에서 전자의 가속 [1] 194
771 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [1] file 201
770 플라즈마를 이용한 물속 세균 살균 질문드립니다. [2] 203
769 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 212

Boards


XE Login