번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [113] 4914
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16259
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51250
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63760
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 83574
30 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1220
29 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 1240
28 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 1404
27 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 1413
26 etching에 관한 질문입니다. [1] 1455
25 터보펌프 에러관련 [1] 1471
24 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 1617
23 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 1783
22 Plasma etcher particle 원인 [1] 2032
21 RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] 2053
20 PR wafer seasoning [1] 2403
19 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2415
18 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] 2805
17 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 3141
16 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] 3391
15 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3477
14 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 3661
13 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 3868
12 DRAM과 NAND에칭 공정의 차이 [1] 4855
11 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 5102

Boards


XE Login