Others 크룩수의 음극선도 플라즈마의 현상인가요?
2017.03.29 22:26
플라즈마는 기본적으로 양극과 음극 사이에, 아르곤 등의 비활성 기체를 넣어줘서, 이 비활성 기체가 전기장에 의해 방전되어서
이온화 되는 것으로 알고 있습니다.
그런데 크룩스의 음극선 실험에서, 실험 조건을 보니까, 진공관에다가 양 끝 단에 전위차를 걸어주고 있습니다.
이 음극선 실험에서 관출되는 음극선 (cathode ray)를 , 플라즈마의 일종으로 봐야 할까요? 아니면
플라즈마가 아니고, 그냥 전자의 다발로 이해해야 하나요?
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [180] | 74896 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 18754 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56232 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 66719 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 88087 |
698 | 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] | 286 |
697 | plasma modeling 관련 질문 [1] | 288 |
696 | 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] | 291 |
695 | Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] | 291 |
694 | self bias [1] | 296 |
693 | 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] | 314 |
692 |
plasma striation 관련 문의
[1] ![]() | 314 |
691 |
Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동
[1] ![]() | 317 |
690 | Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 | 318 |
689 | CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] | 328 |
688 | 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] | 338 |
687 | 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] | 343 |
686 | OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] | 346 |
685 |
RF Sputtering Target Issue
[2] ![]() | 348 |
684 |
입자에너지에따른 궤도전자와 핵의 에너지loss rate
![]() | 350 |
683 | PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] | 352 |
682 |
염소발생 전기분해 시 스파크 발생에 관해 질문드립니다.
[1] ![]() | 358 |
681 | 기판표면 번개모양 불량발생 [1] | 358 |
680 | H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [1] | 363 |
679 | VPS 공정에서 압력변수관련 질문입니다. [1] | 373 |
플라즈마라는 조건으로 이해되기 위해서는 전자/이온의 밀도, 즉 플라즈마 밀도가 매우 크고 전자와 이온이 거의 같은 밀도 크기를 가져 준중성 상태를 유지해야 하며, 전기장을 차폐하는 길이인 디바이 차폐 길이가 매우짧은 조건과 함께 플라즈마의 진동수는 충돌수에 비해서 커서 충돌로 인해 플라즈마 특성이 변하지 않아야 합니다. 이 조건 하에서 플라즈마의 성질을 논의하여야 이후 현상에 대한 이해가 수월합니다.