Shower head 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성

2022.09.26 19:29

나비제임스 조회 수:691

안녕하세요. CCP TYPE의 Chamber에 관한 문의점이 있습니다.

 

CCP 방식의 Chamber에서 HF를 이용하여 Plasma를 생성할여 Deposition을 진행하는 공정의 경우 Wafer가 안착되는 Plate의 온도가 Shower Head 보다 일반적으로 높은 조건을 사용하게 됩니다.

이때 HF의 주파수를 기존의 2배로 변경하게되면 Plasma의 밀도가 증가할 것으로 생각되며 다양한 변화가 발생할 것으로 생각됩니다.

그럼 온도 측면에서 Shower Head에 열전달 변화가 발생할까요?

저압에서 진행하는 공정 특성상 Plasma 온도변화가 Shower Head에 미치는 영향은 미비할것으로 생각되는데 주파수 변화와 Plasma 온도와 관련된 논문을 찾을 수 없어서 문의드립니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [303] 78038
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20848
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57737
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69253
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93634
799 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [Base pressure 이해] [1] 113
798 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [RF 전원과 매칭] [1] 118
797 PECVD 실험을 하려고 하는데 조언 구합니다. 134
796 Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [Sheath 크기 및 전위 분포] [1] 137
795 플라즈마 설비에 대한 질문 139
794 CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [Chamber impedance 변화] [1] 145
793 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [Sheath uniformity 이해] [1] 148
792 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [Lorentz force와 ExB drift 이해] [1] 158
791 플라즈마 사이즈 측정 방법 [플라즈마 분포 측정 및 산포 평가] [1] 158
790 CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [Ar plasma chemical etching] [1] 166
789 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [RF Power] [1] 167
788 반사파에 의한 micro arc 질문 [VHF 전력 인가] [2] 169
787 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [Pachen's law 이해] [1] 169
786 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [상압플라즈마 소스] [1] 170
785 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [Sheath energy] [1] 177
784 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [플라즈마 생성 공간과 플라즈마 확산] [1] 181
783 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [국부 방전과 chucking] [1] 181
782 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 182
781 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [에너지 균형과 입자 균형식] [1] 183
780 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 185
쓰기
태그

Boards

XE Login