Deposition FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석
2024.01.27 13:54
안녕하세요.
수제의 건 관련하여 막질 전문가님께 질문드립니다.
SiO2 공정 조건에 따른 막질을 해석하려고 하는데요.
그 방법 중 하나로 FTIR 측정을 이용한 분석입니다.
통상 SiO2는 SiO Symmetric와 Asymmetric 2개의 Peak 중첩되서 나오는데요.
질문입니다.
Symmetric이 강한 결합이고, Asymmetric이 약한 결합이라고 하는데...
FTIR X축은 cm-1(카이저)로 E=hv로 계산하면 결국 에너지입니다.
Symmetric은 약 1030cm-1이고, Asymmetric은 1170cm-1이니, Asymmetric이 좀 더 강한막이고, 이 Peak의 가오시안 분포 면적이 많으면 좋은 막 아닌가요?
아니면, 다른 각도로 해석하면 Asymmetric 비대칭구조는 흔히 극성분자라고 해서 양전하와 음전하가 균형을 이루지 않고 한쪽에 치우쳐 존재하는 상태를 말하죠.
즉, 다시말해서 Symmetric은 무극성 대칭구조이고, 양전하 음전하가 균형을 이루고 있고, 이는 다른 분자와의 상호작용이 극성 분자에 비해 낮기때문에 상대적으로
비대칭구조분자 보다는 안정적이다. 이렇개 해석을 해도 되는지요.
좀 헷갈리네요.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] | 76739 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20207 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57168 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68703 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92290 |
769 | CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [2] | 159 |
768 | Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [1] | 166 |
767 | corona model에 대한 질문입니다. [1] | 169 |
» | FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 | 169 |
765 | 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] | 171 |
764 | 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [1] | 182 |
763 | 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [1] | 186 |
762 | 플라즈마를 이용한 물속 세균 살균 질문드립니다. [1] | 189 |
761 | AP plasma 공정 관련 문의 [1] | 198 |
760 | 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] | 206 |
759 | Cu migration 방지를 위한 스터디 [1] | 208 |
758 | 플라즈마 밀도와 라디칼 [1] | 212 |
757 | GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] | 216 |
756 | Edge ring의 역할 및 원리 질문 [1] | 217 |
755 | 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] | 225 |
754 | Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] | 229 |
753 | Etch Plasma 관련 문의 건.. [1] | 238 |
752 | 대기압 플라즈마 문의드립니다 [1] | 249 |
751 | RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [1] | 251 |
750 | gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [1] | 252 |