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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69253
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93631
54 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 3029
53 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2943
52 PR wafer seasoning [1] 2740
51 RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] 2734
50 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 2651
49 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 2452
48 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 2406
47 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 2404
46 etching에 관한 질문입니다. [1] 2353
45 플라즈마 식각 공정 중 폴리머의 거동 [재료 표면 반응] [1] 2325
44 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 2273
43 doping type에 따른 ER 차이 [1] 2113
42 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 2091
41 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 2087
40 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1897
39 터보펌프 에러관련 [1] 1815
38 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 1518
37 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1457
36 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 1448
35 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 1282
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