안녕하세요. 반도체에 종사하는 엔지니어입니다.

플라즈마에 대한 기초지식이 없어 설비 Trace 하는데 어려움이 있어 도움 요청합니다.

질문

1.VPP가 어떤건지?

2.VDC가 어떤건지?

3.VPP 정상 Trend에서 High Hunting 발생한 경우 왜 그런지?

4.VPP 정상 Trend에서 Low Hunting 발생한 경우 왜 그런지?

5.VDC 정상 Trend에서 High Hunting 발생한 경우 왜 그런지?

6.VDC 정상 Trend에서 Low Hunting 발생한 경우 왜 그런지?

7.플라즈마는 압력,TEMP에 대해서 어떻게 변하는지?

위 7개 항목에 대해서 알고 싶습니다.

참고. 반도체 Batch 장비 , ALD막 생성에 쓰이는 장비입니다.

정말 감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [275] 76840
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20252
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57192
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68743
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92582
416 HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의 [1] 2904
415 VI sensor를 활용한 진단 방법 [2] 2884
414 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2879
413 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] 2836
412 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 2828
411 임피던스 매칭회로 [1] file 2818
410 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 2781
409 PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] 2780
408 플라즈마 압력에 대하여 [1] 2730
407 PR wafer seasoning [1] 2704
406 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [1] 2690
405 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] 2653
404 RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] 2649
403 산소양이온의 금속 전극 충돌 현상 [1] 2591
402 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출) [1] file 2585
401 질문있습니다. [1] 2577
400 Si Wafer Broken [2] 2528
399 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2505
398 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2484
397 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 2473

Boards


XE Login