안녕하세요,

재료공학과 연구실에서 연구를 하고 있는 대학원생입니다.

항상 좋은 답변 해주셔서 많은 도움을 받고 있습니다.


제가 이번에 Arcing 관련 이슈를 공부하고 있는데,


1. DC plasma에서의 arcing과 RF plasma에서의 arcing사이에 어떤 차이가 있는지 궁금합니다.

그리고,

2. RF plasma에서 발생하는 arcing을 줄일 수 있는 방법에는 어떠한 것들이 있는지도 궁금합니다.


감사합니다.



번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [256] 76441
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19999
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57074
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68544
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91346
397 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! 24116
396 MATCHER 발열 문제 [3] 1411
395 플라즈마 기초입니다 [1] 1271
394 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1534
393 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1584
392 플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다.... [1] 1682
391 PR wafer seasoning [1] 2688
390 플라스마 상태에서도 보일-샤를 법칙이 적용 되나요? [1] 6531
389 플라즈마 기본 사양 문의 [1] 611
388 RF PLASMA를 사용한 J.R ESC DECHUCK에 대하여 문의드립니다. [1] 1855
387 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1740
386 VI sensor를 활용한 진단 방법 [2] 2829
385 아래 382 번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [1] 977
384 ICP 후 변색 질문 713
383 Plasma etcher particle 원인 [1] 2894
382 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 2257
381 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 337
380 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 4267
379 Plasma 에서 Coupled (결합) 의 의미 [1] 1008
378 고진공 만드는방법. [1] 990

Boards


XE Login