Etch PR wafer seasoning
2018.03.19 10:54
안녕하세요. 반도체 장비업계에 근무하는 권보경입니다.
ICP 타입 O2 플라즈마에서 E/R drop의 이슈가 있었으나
PR wafer로 seasoning 후 회복되면서 일전과 비슷한 수준으로 saturation 되었습니다.
이 원리는 무엇이고 bare wafer seasoning은 효과가 있는지 알고싶습니다.
답변 부탁드립니다. 감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [271] | 76751 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20217 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57170 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68707 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92313 |
410 | (PAP)plasma absorption probe관련 질문 [1] | 484 |
409 | Si Wafer Broken [2] | 2515 |
408 | Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] | 1427 |
407 | I-V characteristic에 관하여 질문이 있습니다. [1] | 1319 |
406 | 플라즈마 기초에 관하여 질문드립니다. [1] | 941 |
405 | 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] | 2307 |
404 | OES 원리에 대해 궁금합니다! [1] | 26130 |
403 | Collisional mean free path 문의... [1] | 788 |
402 | Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] | 2329 |
401 | 플라즈마 색 관찰 [1] | 4263 |
400 | 플라즈마 장비를 사용한 실험이 가능할까요 ? [1] | 14142 |
399 | langmuir probe관련하여 질문드리고 싶습니다. [1] | 1016 |
398 | DC Plasma 전자 방출 메커니즘 | 1038 |
397 | 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! | 24122 |
396 | MATCHER 발열 문제 [3] | 1429 |
395 | 플라즈마 기초입니다 [1] | 1282 |
394 | O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] | 1562 |
393 | CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] | 1609 |
392 | 플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다.... [1] | 1844 |
» | PR wafer seasoning [1] | 2704 |