안녕하세요. 서울대학교 재료공학부 오규환 교수님 연구실 박사과정 정제준입니다.

SiC 샘플에 plasma etching을 하려고 하는데 CF4 or O2 플라즈마를 이용해서 실험을 해보려고 합니다.

1. 플라즈마 응용연구실에서 장비가 있다면 사용이 가능한지요?

2. SiC etching에 다른 플라즈마 소스를 추천해주신다면 어떤게 있을까요?

3. 장비가 없으시면 다른곳을 추천해주시면 감사하겠습니다.


감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [131] 5626
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16925
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51354
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64230
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 84396
313 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [2] 2126
312 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] 2097
311 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 2090
310 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] 2068
309 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2064
308 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] 2048
307 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2025
306 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] 2007
305 Wafer particle 성분 분석 [1] 1984
304 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 1968
303 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 1967
302 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 1964
301 플라즈마볼 제작시 [1] file 1936
300 Si Wafer Broken [2] 1913
299 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 1889
298 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 1878
297 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 1863
296 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 1850
295 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 1845
» plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] 1830

Boards


XE Login