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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 62994
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 82123
289 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 1911
288 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 1909
287 Wafer particle 성분 분석 [1] 1891
286 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 1887
285 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 1875
284 플라즈마볼 제작시 [1] file 1843
283 plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] 1785
282 가입인사드립니다. [1] 1785
281 Load position 관련 질문 드립니다. [2] 1782
280 Si Wafer Broken [2] 1782
279 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 1766
278 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 1747
277 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 1736
276 13.56MHz resonator 해석 관련 문의 [1] 1702
275 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다. [1] 1687
274 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 1682
273 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 1656
272 chamber impedance [1] 1635
271 3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [1] 1580
270 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 1568
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