안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102956
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24689
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61443
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73484
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105855
453 플라즈마 에칭과 표면처리의 차이점 질문드립니다. [Cleaning, sputter etching, RIE] [1] 2400
452 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [OES, VI 신호 및 가상계측 인자] [2] 2401
451 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [Floating sheath] [1] 2401
450 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [플라즈마 생성 분포와 sheath 전기장] [1] 2406
449 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [이차 전자의 방출 특성] [1] 2412
448 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [N2 플라즈마] [1] 2420
447 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문있습니다. [이온과 전자의 속도 차이와 Gate valve의 위치] [1] 2435
446 chamber impedance [장비 임피던스 데이터] [1] 2444
445 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2471
444 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2479
443 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [소자 식각 데미지] [1] 2532
442 플라즈마 관련 기초지식 [DC glow discharge] [1] 2555
441 analog tuner관련해서 질문드립니다. [박막 플라즈마 및 tunning 원리] [1] 2570
440 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [Self bias의 이해] [1] 2589
439 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [MFC와 residence time] [1] 2603
438 Remote Plasma가 가능한 이온 [Remote plasma와 diffusion] [1] 2614
437 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [Plasma information variable model] [1] 2621
436 Wafer particle 성분 분석 [플라즈마 세정] [1] 2624
435 plasma etching을 관련 문의드립니다. [반도체 공동 연구소] [1] 2636
434 플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다. [Experiment와 KFE] [1] 2658

Boards


XE Login