Others Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요?
2017.10.25 07:56
안녕하세요 Etch 공정 담당하는 회사원입니다~
장비 Idle 상태에서 Dummy 이용하는데 과학적으로 왜 쓰는지 정확하게 이유를 알고싶습니다..
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [303] | 78047 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20850 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57738 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 69253 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 93636 |
439 | 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? | 2373 |
438 | Pecvd 장비 공정 질문 [1] | 1749 |
437 |
CCP 챔버 접지 질문드립니다.
[1] ![]() | 1371 |
436 | DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] | 2452 |
435 | Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] | 3657 |
434 | RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] | 746 |
433 | RF Generator 주파주에 따른 Mathcer Vrms 변화. [1] | 1277 |
432 | 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다. [1] | 2216 |
431 | 산소 플라즈마에 대한 질문입니다... | 524 |
430 |
수중 속 저온 플라즈마 방전 관련 질문 드립니다
[2] ![]() | 622 |
429 | 자기 거울에 관하여 | 1158 |
428 | 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [1] | 850 |
427 | Descum 관련 문의 사항. [1] | 3860 |
426 | RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] | 680 |
425 | Plasma Generator 관련해서요. [1] | 922 |
424 | Plasma 발생영역에 관한 질문 [2] | 1483 |
423 | glass에 air plasma 후 반응에 대해 질문이 있습니다. [1] | 470 |
422 | OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다. [1] | 5991 |
421 | 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] | 1227 |
420 |
해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안
[1] ![]() | 534 |
제 생각에는 ESC 보호를 위해서가 아닐까요? idle 상태에서 만들어지는 플라즈마에 의한 ESC 전극 표면에 형성되는 쉬스는 이온에 가속 에너지를 제공하므로 전극 표면에 sputtering을 유발하게 합니다. 따라서 ESC coating 막을 보호하려면 뭔가 방어기제가 있어야 할 것 같네요. 중요한 것은 Idle 상태를 얼마나 지속할 것인가를 어떤 방법으로 판단하는 것이 좋을까? 이점을 생각해 보세요. 공정진단 방법으로 발전시킬 수가 있겠습니다. 아마도 이때 dummy load의 변화를 갖고 판단하는 근거 자료를 만들어도 좋을지도 모르겠습니다. (특허도 생각해 보시기 바랍니다)