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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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[질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [OES, VI 신호 및 가상계측 인자]
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쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [Floating sheath]
[1] | 2401 |
451 |
플라즈마 에칭과 표면처리의 차이점 질문드립니다. [Cleaning, sputter etching, RIE]
[1] | 2405 |
450 |
Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [플라즈마 생성 분포와 sheath 전기장]
[1] | 2408 |
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양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [이차 전자의 방출 특성]
[1] | 2413 |
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안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [N2 플라즈마]
[1] | 2422 |
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플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문있습니다. [이온과 전자의 속도 차이와 Gate valve의 위치]
[1] | 2435 |
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chamber impedance [장비 임피던스 데이터]
[1] | 2444 |
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Ta deposition시 DC Source Sputtreing
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플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는?
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식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [소자 식각 데미지]
[1] | 2534 |
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플라즈마 관련 기초지식 [DC glow discharge]
[1] | 2556 |
441 |
analog tuner관련해서 질문드립니다. [박막 플라즈마 및 tunning 원리]
[1] | 2570 |
440 |
부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [Self bias의 이해]
[1] | 2591 |
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압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [MFC와 residence time]
[1] | 2606 |
438 |
Remote Plasma가 가능한 이온 [Remote plasma와 diffusion]
[1] | 2617 |
437 |
Wafer particle 성분 분석 [플라즈마 세정]
[1] | 2627 |
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CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [Plasma information variable model]
[1] | 2629 |
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plasma etching을 관련 문의드립니다. [반도체 공동 연구소]
[1] | 2637 |
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플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다. [Experiment와 KFE]
[1] | 2666 |
플라즈마는 이온화된 가스상태이다'라고 정의하는 분도 계십니다.