Plasma in general 플라즈마 상태에서도 보일-샤를 법칙이 적용 되나요? [Plasma 이온화]

2018.03.09 12:48

토북이 조회 수:6676

제목이 곧 질문입니다 감사합니다

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 103095
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24696
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61476
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73500
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105900
453 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [OES, VI 신호 및 가상계측 인자] [2] 2401
452 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [Floating sheath] [1] 2401
451 플라즈마 에칭과 표면처리의 차이점 질문드립니다. [Cleaning, sputter etching, RIE] [1] 2405
450 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [플라즈마 생성 분포와 sheath 전기장] [1] 2408
449 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [이차 전자의 방출 특성] [1] 2413
448 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [N2 플라즈마] [1] 2422
447 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문있습니다. [이온과 전자의 속도 차이와 Gate valve의 위치] [1] 2435
446 chamber impedance [장비 임피던스 데이터] [1] 2444
445 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2471
444 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2479
443 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [소자 식각 데미지] [1] 2534
442 플라즈마 관련 기초지식 [DC glow discharge] [1] 2556
441 analog tuner관련해서 질문드립니다. [박막 플라즈마 및 tunning 원리] [1] 2570
440 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [Self bias의 이해] [1] 2591
439 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [MFC와 residence time] [1] 2606
438 Remote Plasma가 가능한 이온 [Remote plasma와 diffusion] [1] 2617
437 Wafer particle 성분 분석 [플라즈마 세정] [1] 2627
436 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [Plasma information variable model] [1] 2629
435 plasma etching을 관련 문의드립니다. [반도체 공동 연구소] [1] 2637
434 플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다. [Experiment와 KFE] [1] 2666
쓰기
태그

Boards

XE Login