DC glow discharge DC Plasma 전자 방출 메커니즘
2018.04.19 11:22
반도체 장비업체에서 일하고 있는 사람입니다.
전기, 전자 전공으로 최근에 Plasma에 관심이 생겨서 공부하고 있습니다.
DC Plasma에서 전자방출 메커니즘이 여러가지가 있는 것으로 알고 있습니다.
타운센트 방전 이론에 의한 알파, 감마 작용는 이해가 가는데,
1. 플라즈마 내부 광자에 의한 음극에서의 이차 전지 방출(Photoemission)
2. 준안정(metastable) 종이 음극을 때릴 때 이차 전자 방출
위의 두가지가 무엇을 의미하는지 잘 모르겠습니다.
알고계시는 선배님들 알려주시면 감사하겠습니다.
댓글 0
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [275] | 76816 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20246 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57186 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68739 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92575 |
| 415 | HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의 [1] | 2903 |
| 414 | VI sensor를 활용한 진단 방법 [2] | 2882 |
| 413 | HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? | 2879 |
| 412 | Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] | 2826 |
| 411 | 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] | 2825 |
| 410 |
임피던스 매칭회로
[1]  | 2816 |
| 409 | PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] | 2779 |
| 408 | [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] | 2776 |
| 407 | 플라즈마 압력에 대하여 [1] | 2730 |
| 406 | PR wafer seasoning [1] | 2704 |
| 405 | 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [1] | 2688 |
| 404 | 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] | 2652 |
| 403 | RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] | 2643 |
| 402 | 산소양이온의 금속 전극 충돌 현상 [1] | 2591 |
| 401 |
안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출)
[1] | 2584 |
| 400 | 질문있습니다. [1] | 2575 |
| 399 | Si Wafer Broken [2] | 2527 |
| 398 | 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] | 2504 |
| 397 | 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] | 2483 |
| 396 | [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] | 2466 |