안녕하십니까 교수님. 플라즈마를 공부하면서 생긴 궁금증으로 인해 질문드립니다.
아래 첨부된 그림파일과 같은 회로에서 임피던스 매칭 회로의 구동원리는 어떻게 되는지요?
임피던스 매처에서 만약 X<0인 capacitive 인 경우 , X>0인 inductive인 경우 각각 임피던스 매칭회로의 변화는 어떻게 되는지 궁금합니다.
항상 감사드립니다.
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] | 76739 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20207 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57168 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68703 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92291 |
| 409 | Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] | 2326 |
| 408 | 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? | 2327 |
| 407 | 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] | 2334 |
| 406 | CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] | 2343 |
| 405 | Ta deposition시 DC Source Sputtreing | 2360 |
| 404 | RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] | 2382 |
| 403 | RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] | 2397 |
| 402 | plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] | 2433 |
| 401 | Load position 관련 질문 드립니다. [1] | 2438 |
| 400 | [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] | 2455 |
| 399 | 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] | 2478 |
| 398 | 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] | 2493 |
| 397 | Si Wafer Broken [2] | 2512 |
| 396 | 질문있습니다. [1] | 2572 |
| 395 |
안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출)
[1]  | 2580 |
| 394 | 산소양이온의 금속 전극 충돌 현상 [1] | 2581 |
| 393 | RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] | 2636 |
| 392 | 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] | 2644 |
| 391 | 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [1] | 2686 |
| 390 | PR wafer seasoning [1] | 2701 |