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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70419
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444 플라즈마 에칭과 표면처리의 차이점 질문드립니다. [Cleaning, sputter etching, RIE] [1] 2198
443 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [소자 식각 데미지] [1] 2212
442 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [PECVD와 PACVD] [1] 2228
441 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [Lorentz force와 magnetic confinement] [1] 2233
440 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [MFC와 residence time] [1] 2244
439 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [OES, VI 신호 및 가상계측 인자] [2] 2256
438 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [이차 전자의 방출 특성] [1] 2262
437 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [Plasma information variable model] [1] 2267
436 플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다. [Experiment와 KFE] [1] 2289
435 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문있습니다. [이온과 전자의 속도 차이와 Gate valve의 위치] [1] 2296
434 doping type에 따른 ER 차이 [MD 시뮬레이션 연구] [1] 2301
433 플라즈마 관련 기초지식 [DC glow discharge] [1] 2308
432 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [라디컬 측정 방법 및 세정 기술] [2] 2314
431 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2339
430 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [Self bias의 이해] [1] 2346
429 플라즈마볼 제작시 [전기장 형성 및 플라즈마 방전] [1] file 2389
428 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2411
427 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2416
426 LF Power에의한 Ion Bombardment [플라즈마 장비 물리] [2] 2429
425 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [ESC coating와 dummy load] [1] 2453
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