공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[160]
| 73076 |
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 17641 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 55521 |
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 65727 |
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 86104 |
327 |
ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다.
[1] | 4871 |
326 |
DRAM과 NAND에칭 공정의 차이
[1] | 5074 |
325 |
코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다.
[1] | 5132 |
324 |
RF Vpp 관련하여 문의드립니다.
[1] | 5207 |
323 |
안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다.
[3] | 5296 |
322 |
RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이
[4] | 5454 |
321 |
RF calibration에 대해 질문드립니다.
| 5471 |
320 |
모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의
| 5731 |
319 |
OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다.
[1] | 5740 |
318 |
Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다.
[2] | 5834 |
317 |
O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154
[1] | 5959 |
316 |
자료 요청드립니다.
[1] | 6094 |
315 |
O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다.
[1] | 6136 |
314 |
저온 플라즈마에 관해서
[1] | 6172 |
313 |
공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제
[2] | 6250 |
312 |
RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다
[2] | 6267 |
311 |
플라즈마 데미지에 관하여..
[1] | 6279 |
310 |
플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의..
[1] | 6284 |
309 |
액체 안에서의 Dielectric Barrier Discharge에 관하여 질문드립니다!
[1] | 6339 |
308 |
플라즈마 기술관련 문의 드립니다
[1] | 6343 |