안녕하십니까 현재 MF(400kHz) 파워를 개발중에 있는 연구원입니다. 


RPG 파워를 개발중에 있습니다. 

개발품으로는 RPG에서 챔버의 유량 (GAS)에 따른 출력이 변화하며 제어 되어야 하는데, 

검출로는  FWD_P, REF_P만을 사용하려 합니다. 

이 두가지 팩터로, 챔버의 임피던스 변화량을 추정 할 수 있는지 궁금합니다. 


만약 방법이 있다면 알려주시면 감사하겠습니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76871
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20273
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57199
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68751
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92694
417 Wafer particle 성분 분석 [1] 2330
416 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2335
415 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2336
414 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 2337
413 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2340
412 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 2341
411 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 2342
410 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 2349
409 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 2352
408 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2354
407 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 2359
406 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 2362
405 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2362
404 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2398
403 plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] 2435
402 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] 2439
401 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2450
400 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2491
399 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 2491
398 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2517

Boards


XE Login