Etch PR wafer seasoning

2018.03.19 10:54

권보경 조회 수:2706

안녕하세요. 반도체 장비업계에 근무하는 권보경입니다.


ICP 타입 O2 플라즈마에서 E/R drop의 이슈가 있었으나

PR wafer로 seasoning 후 회복되면서 일전과 비슷한 수준으로 saturation 되었습니다.


이 원리는 무엇이고 bare wafer seasoning은 효과가 있는지 알고싶습니다.

답변 부탁드립니다. 감사합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76878
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20274
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57199
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68752
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92705
417 Wafer particle 성분 분석 [1] 2332
416 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2336
415 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2338
414 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 2342
413 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 2344
412 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 2344
411 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2349
410 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 2351
409 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 2354
408 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2362
407 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2363
406 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 2363
405 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 2365
404 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2400
403 plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] 2435
402 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] 2444
401 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2452
400 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2491
399 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 2499
398 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2521
쓰기
태그

Boards

XE Login