안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [218] 75407
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19148
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56477
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 67535
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 89320
368 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 2942
367 M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 3003
366 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] 3035
365 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 3047
364 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 3074
363 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 3103
362 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3127
361 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 3134
360 아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서 3137
359 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 3144
358 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 3177
357 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [2] 3202
356 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 3205
355 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] 3291
354 ESC Cooling gas 관련 [1] 3296
353 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 3311
352 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 3335
351 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] 3389
350 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 3404
349 Descum 관련 문의 사항. [1] 3455

Boards


XE Login