지금 모기업에서 인턴을 하면서 CVD파트에 대해서 공부를 하고있습니다.

PECVD를 과정에서 플라즈마의 균일도가 중요 하다고 합니다.

이때 어떠한 변수들이 플라즈마의 균일도에 영향을 주는지 궁급합니다.

 

이와더불어 N2플라즈마와 수소플라즈마의 차이점에 대해서 알고 싶습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76736
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20206
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68702
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92280
409 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 2325
408 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2327
407 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 2334
406 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 2343
405 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2360
404 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2382
403 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] 2397
402 plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] 2433
401 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2438
400 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 2453
399 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2478
398 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2493
397 Si Wafer Broken [2] 2512
396 질문있습니다. [1] 2572
395 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출) [1] file 2580
394 산소양이온의 금속 전극 충돌 현상 [1] 2581
393 RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] 2636
392 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] 2644
391 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [1] 2686
390 PR wafer seasoning [1] 2701

Boards


XE Login